从核心参数来看，该批次型号的温度范围统一为+5℃～+40℃（可扩展到90℃），控制模式支持循环液出口温度控制与工件负载温度控制（选配），出口控温精度稳定在±0.1℃，部分型号可定制±0.01℃控温精度设备，可满足jing密制程对温度波动的严格要求。工艺控温维度，各型号制冷量覆盖2.54kW至384W区间，加热量从0.54kW至7.54kW不等，可根据不同工况的冷热负荷需求匹配对应型号，避免制冷量与加热功率适配不足的问题。

介质类型方面，该系列适配氟化液、乙二醇水溶液或去离子水等介质，其中去离子水可满足微电子领域对介质低电导率的要求，制冷剂采用R404A、R410A等，适配不同温度区间的制冷需求。介质流量压力覆盖15LPM@3bar至30LPM@3bar，介质接口涵盖Rc1/2、Rc3/4等规格，冷却水接口包括Rc1/2、Rc1/1等，冷却水流量从0.6m³/h到5.5m³/h不等，可匹配不同现场的水路与管路布局需求。

安全防护层面，该系列设备具备自我诊断功能、相序断相保护器、电源过电流、欠欠压保护、加热系统保护、进出液压力监控及低位保护等多重防护，可规避运行过程中的安全隐患。通讯类型支持MODBUSRTU/TCP/IP协议或ETHERCAT、LONWORKS等，可接入自动化控制系统，实现远程监控与参数调整。安装环境要求无腐蚀性或易燃性气体（无腐蚀性或易燃性气体30-70%/无冷凝），电源适配220VAC±10%、单相或380VAC±10%、三相（可定制），总电功率从2.54kW到25kW不等，适配不同功率负荷的工业场景。

应用场景上，FLTZ-001至FLTZ-006W型号凭借+5℃～+40℃的常规温度范围，适配jing密机械加工、电子元件测试、实验室恒温设备冷却等场景。在电子元件制造环节，该设备可为光刻机、涂胶显影设备提供稳定冷却介质，维持设备运行温度稳定，避免温度过高影响元件加工精度；在实验室设备冷却场景，可对jing密实验仪器进行恒温控温，保障实验数据的准确性；在jing密机械加工领域，可适配机床、刀具冷却等温控需求，维持加工过程的温度一致性，助力工业生产的稳定运行。

FLS常温高精度系列

适用范围 应用：原理：CHILLER 高精度系列设备集成蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统，进行制冷加热，可实现高精度控温，适用于光刻机、涂胶显影设备等领域制冷加热控温。核心技术与优势：1.高精度控温：采用PID算法或PLC控制，实现温度波动≤±0.005℃，适用于高精密制造场景。2.多场景适配：支持氟化液、乙二醇水溶液、DI水等不同介质使用。 …

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FLTZH高温系列

适用范围 应用：CHILLER高温系列主要应用与薄膜沉积领域，适用于CVD、PECVD、MOCVD等需要带走高温热量的工艺制程中，满足半导体高温测试需求。核心技术与优势：1、高温范围宽：出口温度最高可达300℃。2、控温精准：采用智能算法，实现系统动态温度快速响应、控制精度±0.1℃（可选配±0.01℃），具有良好的温度跟随性。3、节约能耗:采用变频自适应调节、软启动…

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FLTZ-U超纯水温控系列

适用范围 Chiller是由紧密耦合的制冷循环与介质循环两大核心系统构成，通过两个循环通道间的介质高效换热，实现对目标设备的精准、稳定温度控制。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 原理：制冷剂在系统中循环，通过压缩、冷凝、节流和蒸发四个过程实现制冷； 同时，载冷剂（介…

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FLTRZ变频环保系列

适用范围 高效节能:变频压缩机组通过内置变频装置随时根据用户冷热负荷需求改变直流压缩机的运行转速，从而避免压缩机与电加热满负荷对抗，保持机组稳定的工作状态。 快速制冷:变频机组采用先进的变频技术，精确控制压缩和风机运行转速，通过电子膨胀阀智能调节，快速制冷。 超低噪音:变频机组采用变频涡旋或双转子压缩机，大大降低回旋不平衡度，使机组的振动非…

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氟化液回收装置

适用范围 氟化液回收系统采用一体式风冷设计。采用品牌的压缩机、冷凝器、蒸发器等部件，形成制冷系统提供冷源，蒸发器与客户端氟化液循环系统进行换热，对氟化液进行冷凝后回收。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 控制系统采用PLC加触摸屏方式，可以显示环境温度，具有电源欠压、缺…

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FLTZ变频多通道系列Chiller

FLTZ系列多通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性。

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单通道系列 Single Channel Chiller

FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），实现系统快速响应、较高的控制精度。

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面板系列Panel Chiller

面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等，支持⼤流量⾼负载，确保极端⼯况下持续稳定运⾏；支持冷却⽔动态调节系统，可根据环境温度与设备热负荷，实时调节⽔温。

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帕尔贴Chiller

冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃，专为半导体行业度身定制； 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制；

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负压型控温机组

负压型控温系统通过负压环境下的流体循环实现精准温度控制，原理：通过负压发⽣器驱动导热介质（⽔/油）循环，避免泄漏⻛险，适⽤于各种类型板卡冷却。

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