一、半导体Chiller设备的温度控制原理

　　半导体Chiller设备的温度控制基于闭环反馈调节机制，通过检测 – 计算 – 执行的循环实现目标温度的稳定。其核心构成包括温度传感器、控制器、制冷系统与加热系统：温度传感器实时采集工艺环境的温度信号，传输至控制器后与设定值对比，控制器根据偏差值调节制冷或加热输出，当实际温度高于设定值时，制冷系统启动，通过制冷剂的相变吸热降低温度；当实际温度低于设定值时，加热系统通过压缩机制热或电加热补充热量。

　　二、半导体Chiller设备在晶圆制造关键工艺中的应用

　　1、光刻工艺中的温度控制

　　光刻工艺对温度变化要求较高，光刻胶的涂布、曝光与显影均需在稳定温度下进行。Chiller设备通过控制光刻胶涂布台的温度，确保胶层厚度均匀，若温度波动过大，可能导致光刻胶黏度变化，引发涂层厚薄不均。在曝光环节，Chiller设备为掩模版与晶圆载台提供恒温环境，避免因热胀冷缩导致的套刻精度偏差。其控温精度可满足光刻工艺对温度稳定性的要求，确保曝光图形的尺寸一致性。

　　2、刻蚀工艺中的温度控制

　　刻蚀过程中，反应腔的温度直接影响刻蚀速率与剖面形态。Chiller设备通过控制反应腔壁与晶圆载台的温度，维持等离子体反应的稳定性：温度过高可能导致刻蚀剂过度反应，造成图形过刻；温度过低则会降低反应效果，影响刻蚀效率。此外，Chiller设备的动态控温能力可应对刻蚀过程中的热负载变化，当晶圆表面因等离子体轰击产生热量时，设备能快速调节制冷量，避免局部温度升高导致的刻蚀均匀性下降。

　　三、半导体Chiller设备温度控制的核心技术要求

　　1、控温精度与稳定性

　　晶圆制造工艺通常要求温度控制精度在合理范围以内。Chiller设备通过成熟的控制算法实现这一要求：算法根据温度变化趋势提前调节输出，减少滞后带来的波动。同时，设备配备高精度温度传感器，结合实时数据采集与快速响应的执行机构，确保在负载变化时仍能维持温度稳定。

　　2、温度范围与调节速率

　　不同工艺对温度的需求差异较大，Chiller设备需覆盖从低温到高温的宽区间。刻蚀工艺需在低温环境下进行，而薄膜退火则可能需要苛刻的高温。此外，工艺切换时的温度调节速率需匹配生产节拍，快速升降温能力可缩短工艺准备时间，提高设备利用率。Chiller设备通过优化制冷与加热系统的功率配置，在保证控温精度的前提下，实现温度的快速切换。

　　3、介质适应性与系统安全性

　　晶圆制造中常用的导热介质包括硅油、乙二醇水溶液等，Chiller设备需根据温度范围选择适配介质：高温场景则使用稳定性更好的硅油，设备的循环系统采用耐腐蚀材料，避免介质与管路反应产生杂质污染晶圆。同时，系统具备多重安全保护功能，防止因介质泄漏或设备故障影响生产安全。

　　半导体Chiller设备通过准确、稳定的温度控制，为晶圆制造的各环节提供了基础保障。其在控温精度、温度范围与系统安全性上的设计，契合了晶圆制造对工艺环境的严苛要求。

接触式高低温测试机

接触式⾼低温测试机应⽤温度范围-75~+200℃，⽀持从极低温到⾼温的快速升温和降温，最快速率可达到75℃/min，能够精确的控制温度，误差通常在±0.2℃以内。

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精密恒温恒湿机组

冠亚恒温LNEYA精密恒温恒湿机组，超精密空调是⼀种能精准控制环境温、湿度的空⽓调节设备，提供两款设备型号，常规水冷款和迷你型风冷款。机组采⽤⾼品质洁净型⻛机、洁净型箱体、⼯艺，避免⼆次环境污染

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双通道系列 Dual Channel Chiller

FLTZ系列双通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性。

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ZLTZ直冷控温机组Chiller

ZLTZ直冷控温机组Chiller适合应⽤于微通道反应器、板式换热器、冷板、热沉板、管式反应器等换热⾯积⼩、制冷量⼤、温差⼩的控温需求场所；设备可⾃动回收导热介质；

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单通道系列 Single Channel Chiller

FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），实现系统快速响应、较高的控制精度。

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三通道系列 Triple Channel Chiller

FLTZ系列三通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，系统支持三个通道独立控温，每个通道有独立的温度范围、冷却加热能力、导热介质流量等。

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ZLJ/SLJ系列超低温直冷机

适用范围 将制冷系统中的制冷剂直接输出蒸发进⼊⽬标控制元件（换热器）换热，从⽽使⽬标控制对象降温。具备换热能力相对于流体（⽓体）输送⼊换热器换热能⼒更⾼⼀般在5倍以上，这样特别适⽤于换热器换热⾯积⼩，但是换热量⼤的运⽤场所。 也可以如⽓体捕集运⽤，将制冷剂直接通⼊捕集器蒸发，通过捕集器表⾯冷凝效应，迅速捕集空间中的⽓体。 …

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真空控温卡盘Chuck

冠亚恒温LNEYA真空控温卡盘Chuck提供8寸卡盘、12寸卡盘以及非标定制方形冷板，支持-70~+200℃宽温度范围，也可以定制各种其他温度范围，内置多个温度传感器，多区控温，精确FID调节控温；支持直冷、液冷、⽓冷；

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LQ系列气体冷却装置

适用范围 应⽤于将⽓体（⽆腐蚀）降温使⽤：如⼲燥压缩空⽓、氮⽓、氩⽓等常温⽓体通⼊到LQ系列设备内部，出来的⽓体即可达到⽬标低温温度，供给需求测试的元件或换热器中。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 所有设备额定测试条件：⼲球温度：20℃；湿球温度：16℃。进⽔温度：20℃；出…

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AI系列循环风系统

适用范围 运⽤于半导体设备⾼低温测试。电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源；独⽴的制冷循环⻛机组；可连续⻓时间⼯作，⾃动除霜，除霜过程不影响库温； 模块化设计，备⽤机替换容易（只要⼀台备⽤机组即可）；解决频繁开关⻔，蒸发系统结霜问题；蒸发系统除霜过程不影响。构筑⼀套⾼低温恒温室变的简单（根据提供的图纸，像搭积⽊⼀般拼接好箱体，连接好电和⽔，设…

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AES系列热流仪

适用范围 射流式⾼低温冲击测试机给芯⽚、模块、集成电路板、电⼦元器件等提供精确且快速的环境温度。是对产品电性能测试、失效分析、可靠性评估的仪器设备。 产品特点 Product Features  产品参数 Product Parameter 行业应用 APPLICATION 半导体封测工艺过程控温解决方案 半导体封测…

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AET系列气体快速温变测试机

适用范围 压缩空⽓进⼊⽓体快速温变测试机，内置有⼲燥器，预先把⽓体⼲燥到露点温度-70度以下，进⾏制冷加热控温输出稳定流量压⼒恒温的⽓体，对⽬标对象进⾏控温（如各类控温卡盘、腔体环境、热承板、料梭、腔体、电⼦元件等），可根据远程卡盘上的温度传感器进⾏⼯艺过程控温，⾃动调节输出⽓体的温度。 产品特点 Product Features …

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Dryer气体干燥器

适用范围 应⽤于传感器、半导体制造、薄膜和包装材料执照、粉状物料运输、喷涂系统、⻝品⾏业、制药⾏业等需要实现-80℃低露点⼲燥和清洁的分布式⽓源。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 行业应用 APPLICATION 半导体封测工艺过程控温解决方案 半导体封测工艺是…

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面板系列Panel Chiller

面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等，支持⼤流量⾼负载，确保极端⼯况下持续稳定运⾏；支持冷却⽔动态调节系统，可根据环境温度与设备热负荷，实时调节⽔温。

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帕尔贴Chiller

冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃，专为半导体行业度身定制； 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制；

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　　一、三通道直冷机的工作原理与系统架构

　　三通道直冷机的核心在于其多回路制冷系统，每个通道可单独控制温度，适用于需要同时处理多个不同温区的场景。其制冷循环基于蒸气压缩原理，但相较于单通道直冷机，三通道系统采用多压缩机并联或复叠式制冷技术，确保各通道的制冷能力可单独调节。  

　　1、制冷循环分析

　　该制冷循环系统采用多通道控温设计，各通道配备高性能变频压缩机，将气态制冷剂压缩至高温高压状态；随后制冷剂通过风冷或水冷冷凝器进行放热液化，部分机型采用板式换热器以提升热交换效率；系统通过电子膨胀阀准确调节制冷剂流量，确保蒸发温度稳定；制冷剂在目标设备内直接蒸发吸热，省去传统载冷剂的中间传热环节，降低传热损失。

　　2、三通道控制机制

　　该三通道单独控制系统为每个通道配置了高精度温度传感器和压力变送器，实时准确监测蒸发器运行状态；系统采用PLC控制器，通过智能PID算法动态调节压缩机转速和电子膨胀阀开度，确保温度控制精度稳定。该设计使得三通道直冷机能够同时处理不同温区的制冷需求，在半导体测试中，可分别控制芯片、电源模块和光学器件的冷却温度，避免传统单通道系统因温度失控导致的控温偏差。  

　　二、行业应用分析

　　1、半导体制造与测试

　　在半导体制造领域，三通道直冷机凭借其多通道控温特性，广泛应用于晶圆刻蚀、芯片测试和封装等关键工艺环节：针对晶圆刻蚀工艺中不同反应腔对特定低温的差异化需求，三通道系统可实现各腔体的准确控温；在进行高功率芯片可靠性测试时，系统可同时对供电模块、信号处理单元和光学传感器实施分区温度管理，避免热干扰问题；在芯片封装过程的塑封和键合阶段，通过为不同材料提供定制化温控方案，提升了产品良率和工艺稳定性，充分满足半导体制造对温度控制的高精度要求。

　　2、化工与制药行业

　　在化工与制药行业，三通道直冷机为工艺过程提供准确温度管理解决方案：针对化学反应釜的特殊工艺需求，系统可实现在低温条件下安全引发聚合反应，并快速切换至高温维持合适的反应速率；在医药冻干工艺中，通过单独控制预冻、升华和解析三个关键阶段的温度参数，提升了效率和质量，这种温控能力使三通道直冷机成为化工制药行业工艺优化和设备升级的选择。

　　3、新能源与汽车测试

　　在新能源与汽车测试领域，三通道直冷机展现出多工况模拟能力，解决了传统单通道系统无法兼顾多温区的技术难题，提升燃料电池系统的整体测试效率和能源利用率，为新能源研发验证提供测试支持。

三通道直冷机凭借多回路控温能力，在半导体、化工、医药、大型服务器及新能源等领域展现出较高的适用性。其直接蒸发换热的原理减少了中间传热损失，结合变频调节和智能控制算法，能够满足复杂工业场景下的准确温控需求。

接触式高低温测试机

接触式⾼低温测试机应⽤温度范围-75~+200℃，⽀持从极低温到⾼温的快速升温和降温，最快速率可达到75℃/min，能够精确的控制温度，误差通常在±0.2℃以内。

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双通道系列 Dual Channel Chiller

FLTZ系列双通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性。

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ZLTZ直冷控温机组Chiller

ZLTZ直冷控温机组Chiller适合应⽤于微通道反应器、板式换热器、冷板、热沉板、管式反应器等换热⾯积⼩、制冷量⼤、温差⼩的控温需求场所；设备可⾃动回收导热介质；

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LT系列低温冷冻机

适用范围 冠亚恒温低温冷冻机温度范围从-150℃到-5℃，采用二次过冷技术，制冷迅速。产品可靠性强，性能优异。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter LT 10℃~30℃ LT -25℃~30℃ LT -45℃~30℃ LT -60℃~-30℃ LT -80℃~-40℃ 所有设备额定测试条件：⼲球温度：20℃；湿球温度：16℃。进⽔温度…

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LTZ变频系列低温冷冻机组

适用范围 LTZ系列低温冷冻机采用变频技术，实现产品⾼效节能，控温范围：-115℃～30℃，控温精度：±0.5℃。变频压缩机组通过内置变频装置随时根据⽤⼾冷热负荷需求改变直流压缩机的运⾏转速，从⽽避免压缩机与电加热满负荷对抗，保持机组稳定的⼯作状态，达到节能效果。 产品特点 Product Features 产品参数 Produ…

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HLTZ系列氢气高效换热制冷机组

适用范围 氢气经过内高压换热器，制冷系统通过制冷剂直接与氢气换热，实现高效换热控温；设备本体采用正压防爆系统，正压系统内置有恒温器，确保系统环境维持在常温。相对于传统防冻液或其他流体与氢气换热，本设备采用介质为制冷系统制冷剂（相变热），能效更高；内置有可再生干燥机，确保正压系统内部干燥，没有冷凝水；可与耐高压微通道换热器或壳管换热器（9…

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LG螺杆机组系列

适用范围 本系列设备适⽤于各类化⼯、医药、机械等领域⽣产⼯艺冷源，可提供-110℃~30℃冷冻介质，可作为冰蓄冷、低温送⻛及其它⽣产⼯艺所要求的⼯艺冷源。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter LG 5℃~30℃ LG 5℃~30℃ LG -45℃~-10℃ LG -60℃~-10℃ LG -80℃~-30℃ LG -110℃~-50℃ 行业…

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2度纯水DI制冷控温机组

适用范围 特别适合生产过程中2℃~5℃DI水需求的应用场景。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 行业应用 APPLICATION 新材料|特气生产控温解决方案 新材料，作为新近发展或正在发展的具有优异性能的结构材料和有特殊性质的功能材料，其研发和生产过程对温度控制有着…

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LTZ变频M系列

LTZ变频M系列，适合应⽤于⽬标控温对象已经有蓄冷罐、循环泵，通过循环泵将介质输送⼊LTZ
M系列制冷控温机组，构成⼀个闭合循环制冷系统。

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单通道系列 Single Channel Chiller

FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），实现系统快速响应、较高的控制精度。

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三通道系列 Triple Channel Chiller

FLTZ系列三通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，系统支持三个通道独立控温，每个通道有独立的温度范围、冷却加热能力、导热介质流量等。

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ZLJ/SLJ系列超低温直冷机

适用范围 将制冷系统中的制冷剂直接输出蒸发进⼊⽬标控制元件（换热器）换热，从⽽使⽬标控制对象降温。具备换热能力相对于流体（⽓体）输送⼊换热器换热能⼒更⾼⼀般在5倍以上，这样特别适⽤于换热器换热⾯积⼩，但是换热量⼤的运⽤场所。 也可以如⽓体捕集运⽤，将制冷剂直接通⼊捕集器蒸发，通过捕集器表⾯冷凝效应，迅速捕集空间中的⽓体。 …

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真空控温卡盘Chuck

冠亚恒温LNEYA真空控温卡盘Chuck提供8寸卡盘、12寸卡盘以及非标定制方形冷板，支持-70~+200℃宽温度范围，也可以定制各种其他温度范围，内置多个温度传感器，多区控温，精确FID调节控温；支持直冷、液冷、⽓冷；

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面板系列Panel Chiller

面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等，支持⼤流量⾼负载，确保极端⼯况下持续稳定运⾏；支持冷却⽔动态调节系统，可根据环境温度与设备热负荷，实时调节⽔温。

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帕尔贴Chiller

冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃，专为半导体行业度身定制； 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制；

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　　案例一：光刻过程中的温度控制

　　应用描述：光刻是晶圆制造中的关键步骤，需要将光敏抗蚀剂通过曝光形成所需电路图案。温度的波动会影响光刻胶的均匀性和曝光质量。

　　解决方案：使用无锡冠亚Chiller为光刻机提供稳定的温度控制，确保光刻胶在恒定温度下曝光，减少因温度变化引起的缺陷。

　　效果：晶圆制造领域控温chiller通过准确的温度控制，提高了光刻过程的一致性和产量，减少了废品率。

　　案例二：化学气相沉积（CVD）过程中的温度管理 

　　应用描述：CVD是用于在晶圆表面沉积薄膜的技术。温度控制对于薄膜的质量和均匀性影响比较大。

　　解决方案：无锡冠亚Chiller被用于维持CVD反应室内的准确温度，以确保沉积过程的稳定性和薄膜质量。

　　效果：晶圆制造领域控温chiller准确的温度控制有助于提高薄膜的均匀性和附着力，减少缺陷和提高器件性能。

　　案例三：刻蚀过程中的温度调节

　　应用描述：在晶圆制造过程中，刻蚀步骤需要去除多余的材料以形成电路图案。温度控制对于刻蚀速率和选择性影响比较大。

　　解决方案：使用无锡冠亚Chiller为刻蚀设备提供准确的温度控制，以优化刻蚀液的性能和刻蚀过程的均匀性。

　　效果：晶圆制造领域控温chiller通过准确控制刻蚀液的温度，提高了刻蚀过程的精度和产量，减少了边缘粗糙度和刻蚀不均匀的问题。

　　案例四：清洗过程中的温度维持

　　应用描述：晶圆在制造过程中需要经过多次清洗以去除残留物。清洗液的温度直接影响清洗效果。

　　解决方案：无锡冠亚Chiller被用于维持清洗液的恒定温度，以确保清洗过程的有效性。

　　效果：晶圆制造领域控温chiller恒定的温度控制提高了清洗效率，减少了残留物和提高了晶圆的清洁度。

　　案例五：离子注入过程中的温度控制 

　　应用描述：离子注入是改变晶圆表面电学性质的过程。温度控制对于注入剂量和分布的准确性影响比较大。

　　解决方案：无锡冠亚Chiller被用于维持离子注入机的温度，以确保注入过程的稳定性和均匀性。

　　效果：晶圆制造领域控温chiller准确的温度控制有助于提高离子注入的均匀性和重复性，从而提高了器件的性能和可靠性。

这些案例展示了无锡冠亚Chiller在晶圆制造领域的多样化应用，晶圆制造领域控温chiller通过提供准确和稳定的温度控制，Chiller有助于提高晶圆制造过程的质量和效率，确保产品的高性能和可靠性。

　　一、高低温控温系统一拖二在化工换热器中的应用优势

　　高精度温控能力： 高低温控温系统一拖二采用冠亚恒温的控制算法和有效的加热、制冷技术，能够实现高精度的温度控制。控温精度可达±0.3℃，确保换热器内温度的稳定，从而提高化工产品的质量和收率。

　　快速响应： 高低温控温系统具有快速的加热响应能力和高加热效率，可以快速将油温提高到系统设定的温度，并在实时控制下对加热功率进行调节。同时，有效的制冷技术也能够在需要时迅速降低温度，从而提高换热器的效率。

　　多重保护机制： 高低温控温系统一拖二通过电子控制系统，利用多种保护装置，如过热保护、漏电保护等，确保设备的安全运行。这可以有效地防止换热器在加热或冷却过程中发生意外事故，保障工作人员和设备的安全。

　　宽温度控制范围和灵活应用： 高低温控温系统温度控制范围宽，适合多数企业的恒温控制需求。制冷功率从0.5kW到1200kW均可提供相应产品，满足不同规模的化工生产需求。同时，通过可编程温度控制器，用户可以根据实际需求设定温度控制参数，实现灵活应用。

　　二、高低温控温系统一拖二在化工换热器中的具体应用

　　化工精馏釜的温度控制： 在化工精馏过程中，需要对液体混合物进行蒸馏和分离。高低温控温系统一拖二能够准确控制精馏釜的温度，确保蒸馏过程的稳定性和效率。同时，通过连续的升降温操作，大大节省了试验时间和精力。

　　反应釜的温度控制： 化工用高低温一体机可以配套反应釜进行冷却、加热和温度控制等作业。通过设定釜体和夹套内的温度差，当温差达到设定值时，设备会自动停止工作并报警提示，防止反应釜因温差过大而破裂。

　　换热器的热交换优化： 高低温控温系统一拖二采用板式换热器，热交换面积大，热交换速度快。通过优化试验箱内的空气循环系统和热传导路径，可以减小温度梯度和波动范围，提高温度均匀性和稳定性。

高低温控温系统一拖二在化工换热器中的应用，不仅提高了温度控制的精度和效率，还确保了设备的安全运行和化工产品的质量。