冠亚恒温半导体温控Chiller助力半导体材料产业稳定生产

　　在半导体制造领域，温度控制的精度和稳定性对芯片性能以及生产良率有着直接影响。然而，传统温控设备存在能耗较高、精度相对不足以及稳定性欠佳等问题，这些问题已然成为制约半导体材料有效生产的关键因素。

　　一、半导体行业行业挑战

　　一方面，控温精度不足，在低温工况下易出现温度回升现象，可能导致光刻胶形变或研磨液性能波动，进而影响工艺一致性；

　　另一方面，效率低下，能耗较高，且由于控温精度不足，可能导致原料浪费与生产成本增加。这些问题已然成为制约半导体材料有效生产的关键因素。

　　冠亚恒温聚焦半导体行业的控温需求，凭借其高精度的温控解决方案以及创新技术优势，帮助企业达成更有效、更稳定的生产目标。

　　二、半导体行业控温解决方案

　　半导体温控设备Chiller适用于集成电路、半导体显示等行业，温控设备可在工艺制程中准确控制反应腔室温度，是一种用于半导体制造过程中对设备或工艺进行冷却的装置，其工作原理是利用制冷循环和热交换原理，通过控制循环液的温度、流量和压力，带走半导体工艺设备产生的热量，从而实现准确的温度控制，确保半导体制造过程的稳定性和产品质量。

　　三、半导体温控Chiller核心产品

　　FLTZ变频单通道Chiller

　　➤介绍应用：应⽤于光刻、刻蚀、薄膜沉积、探针台等

　　➤温度范围：-100℃~+90℃，控温精度±0.05℃

　　➤技术亮点：变频泵可调整循环液压⼒、流量；智能变频节能控制，降低使用能耗；⽀持⾮标定制，⽀持PC远程控制

　　FLTZ系列双通道Chiller

　　➤介绍应用：应⽤于光刻、刻蚀、薄膜沉积、探针台等

　　➤控温范围：-45℃~+90℃，控温精度：±0.1℃

　　➤技术亮点：系统支持双通道独立控制温度、流量压力；采用变频控温技术，可根据客户需求定制产品

　　FLTZ变频三通道Chiller

　　➤介绍应用：应⽤于光刻、刻蚀、薄膜沉积、探针台等

　　➤控温范围：-20℃～+100℃，控温精度：±0.1℃

　　➤技术亮点：三通道整合，支持每个通道独立控温范围、导热介质流量；深化性能开发，匹配刻蚀工艺需求

　　面板Chiller

　　➤介绍应用：应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等

　　➤控温范围：+15~+30℃，控温精度±0.05℃

　　➤技术亮点：高扬程设计⽀持⼤流量⾼负载，确保严苛⼯况下持续稳定运⾏；智能变频节能控制，减少⽆效能耗；符合三通道⼯艺设计要求，确保信号/流体的独⽴传输与准确控制

　　ETCU换热控温单元

　　➤介绍应用：应用于PVD、CVD、PECVD、ALD⼯艺等

　　➤冷却⽔温度范围：+5℃~+90℃，控温精度±0.05℃

　　➤技术亮点：系统⽆压缩机，通过换热降温；⽀持⾮标定制，⽀持PC远程控制

　　四、为什么选择冠亚恒温？

　　1、深耕半导体领域：服务半导体后道生产流程工艺中，覆盖半导体FAB工艺过程控温、半导体封测工艺过程控温。

2、定制化服务能力：依托模块化平台，提供标准化与个性化结合的解决方案。

　　五、冠亚恒温半导体温控Chiller温控系统技术优势

　　1、变频技术与节能：采用变频技术，结合精心设计的系统结构和自主开发的控制算法，能够准确调节压缩机的输出频率。在满足制程需求的前提下，降低能耗，为企业节省运营成本。

　　2、全密闭式系统：采用全密闭设计，有效杜绝油雾和异味产生，延长导热液体的使用寿命。

　　3、快速加热与制冷：参与循环的导热液体量少，使得加热和制冷速度大幅提升。响应速度快，能够及时适应工艺过程中的温度调整需求。

　　4、模块化设计：系统结构紧凑，占地面积小，安装和移动都十分便捷。这种设计使得设备能够灵活适应不同的生产场地和工艺布局，为企业节省空间和安装成本。

　　5、智能监控与诊断：可同时监控、设定和控制流量、泵压、温度等参数，实时显示运行状态。设备具备故障自动诊断功能，并拥有多项报警保护功能，能够提前预警潜在问题，保障生产的连续性和稳定性。

　　6、控制重复性与稳定性：基于动态控制系统，确保每次控制结果的一致性，有效提升生产稳定性。

　　7、自适应PID控制：采用自适应PID算法，能够自动适应不同的环境和负载条件，无需人工调整参数，这大大降低了操作难度和维护成本，提高了设备的智能化水平。

温度控制是半导体制造过程中一项重要的工艺环节。冠亚恒温半导体温控Chiller凭借技术创新作为发展动力，通过提供准确、稳定且有效的温控系统，协助企业优化生产流程，降低资源消耗，推动企业实现高质量的制造生产。

FLS常温高精度系列

适用范围 应用：原理：CHILLER 高精度系列设备集成蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统，进行制冷加热，可实现高精度控温，适用于光刻机、涂胶显影设备等领域制冷加热控温。核心技术与优势：1.高精度控温：采用PID算法或PLC控制，实现温度波动≤±0.005℃，适用于高精密制造场景。2.多场景适配：支持氟化液、乙二醇水溶液、DI水等不同介质使用。 …

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FLTZH高温系列

适用范围 应用：CHILLER高温系列主要应用与薄膜沉积领域，适用于CVD、PECVD、MOCVD等需要带走高温热量的工艺制程中，满足半导体高温测试需求。核心技术与优势：1、高温范围宽：出口温度最高可达300℃。2、控温精准：采用智能算法，实现系统动态温度快速响应、控制精度±0.1℃（可选配±0.01℃），具有良好的温度跟随性。3、节约能耗:采用变频自适应调节、软启动…

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FLTZ-U超纯水温控系列

适用范围 Chiller是由紧密耦合的制冷循环与介质循环两大核心系统构成，通过两个循环通道间的介质高效换热，实现对目标设备的精准、稳定温度控制。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 原理：制冷剂在系统中循环，通过压缩、冷凝、节流和蒸发四个过程实现制冷； 同时，载冷剂（介…

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FLTRZ二氧化碳系列

适用范围 FLTRZ系列Chiller采用的CO₂（二氧化碳，R744）制冷剂，是契合全球“双碳”战略与环保趋势的高效制冷设备，以天然CO₂为制冷介质，为半导体行业提供绿色可靠的制冷解决方案。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 行业应用 AP…

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