功率半导体模块温控测试系统的准确温度调控技术研究
功率半导体模块作为电力电子设备的核心组件之一,功率半导体模块温控测试系统通过构建成熟的散热机制,为模块在各种工况下的稳定运行提供了保障,同时也为其性能测试和可靠性评估奠定了基础。

功率半导体模块的工作特性决定了其对温度变化要求较高。在大功率输出状态下,模块内部的半导体芯片会因电流通过而产生焦耳热,若热量积累,芯片结温可能超过允许范围,导致开关速度下降、导通电阻变化,甚至出现热击穿等损坏。因此,在模块的研发、生产及测试环节,需要通过温控系统实现热量的快速转移和温度的准确控制,以模拟实际应用中的热环境,验证模块在不同温度条件下的运行状态。
散热是功率半导体模块温控测试系统的核心功能之一,其实现依赖于多方面的技术设计。从散热介质的选择来看,系统通常会根据测试需求采用不同类型的传热介质,如硅油、乙二醇水溶液等,这些介质需具备良好的热稳定性和流动性,以确保热量在模块与散热部件之间传递。同时,系统的循环结构设计也对散热效率有影响,全密闭的循环回路可减少介质挥发和外界污染物的侵入,而磁力驱动泵的应用则能降低泄漏风险,保证介质在回路中的稳定流动,提升散热的持续性。
在散热方式上,温控测试系统会根据模块的功率密度和散热需求,采用液冷、直冷或气冷等不同方案。液冷系统通过板式或微通道换热器,利用冷却水流带走热量,适用于中高功率模块的散热;直冷系统则将制冷剂直接引入与模块接触的换热器,通过制冷剂的蒸发吸热实现快速降温,尤其适合高热流密度场景;气冷系统则通过强制循环的冷空气与模块表面进行热交换,结构相对简单,适用于中小功率模块的测试。这些散热方式的合理选择,可确保模块在测试过程中始终处于设定的温度范围内,为性能评估提供稳定的热环境。
确保大功率器件稳定运行,除了散热,还离不开准确的温度控制能力。功率半导体模块温控测试系统通过集成多种传感器,实时监测模块温度、散热介质温度、流量、压力等关键参数,并将这些信息反馈至控制系统。控制系统采用成熟的算法,如 PID 控制、前馈控制等,根据设定温度与实际监测温度的偏差,动态调节加热或制冷装置的输出,使模块温度保持在目标范围内。这种闭环控制机制可应对模块功率波动带来的热冲击,避免温度骤升骤降对测试结果的干扰,同时也能模拟实际应用中可能出现的温度变化曲线,如快速温变、循环温变等,验证模块的温度适应性。
在实际应用中,功率半导体模块温控测试系统的性能直接影响测试结果的准确性和可靠性。在模块的老化测试中,系统需在长时间内维持稳定的温度环境,以观察模块性能随时间的退化趋势。
功率半导体模块温控测试系统通过成熟的散热机制和准确的温度控制,为大功率器件的性能测试和可靠性评估提供了关键支持。其散热的能力确保模块在高功率运行时产生的热量及时散出,避免过热损坏;准确的温控能力则为模块创造了稳定、可控的热环境,使测试结果更接近实际应用场景。

双通道系列 Dual Channel Chiller
FLTZ系列双通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制,公司在系统中应用多种算法(PID、前馈PID、无模型自建树算法),显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性。
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ZLTZ直冷控温机组Chiller
ZLTZ直冷控温机组Chiller适合应⽤于微通道反应器、板式换热器、冷板、热沉板、管式反应器等换热⾯积⼩、制冷量⼤、温差⼩的控温需求场所;设备可⾃动回收导热介质;
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单通道系列 Single Channel Chiller
FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制,公司在系统中应用多种算法(PID、前馈PID、无模型自建树算法),实现系统快速响应、较高的控制精度。
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三通道系列 Triple Channel Chiller
FLTZ系列三通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制,系统支持三个通道独立控温,每个通道有独立的温度范围、冷却加热能力、导热介质流量等。
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ZLJ/SLJ系列超低温直冷机
适用范围 将制冷系统中的制冷剂直接输出蒸发进⼊⽬标控制元件(换热器)换热,从⽽使⽬标控制对象降温。具备换热能力相对于流体(⽓体)输送⼊换热器换热能⼒更⾼⼀般在5倍以上,这样特别适⽤于换热器换热⾯积⼩,但是换热量⼤的运⽤场所。 也可以如⽓体捕集运⽤,将制冷剂直接通⼊捕集器蒸发,通过捕集器表⾯冷凝效应,迅速捕集空间中的⽓体。 …
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真空控温卡盘Chuck
冠亚恒温LNEYA真空控温卡盘Chuck提供8寸卡盘、12寸卡盘以及非标定制方形冷板,支持-70~+200℃宽温度范围,也可以定制各种其他温度范围,内置多个温度传感器,多区控温,精确FID调节控温;支持直冷、液冷、⽓冷;
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面板系列Panel Chiller
面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等,支持⼤流量⾼负载,确保极端⼯况下持续稳定运⾏;支持冷却⽔动态调节系统,可根据环境温度与设备热负荷,实时调节⽔温。
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帕尔贴Chiller
冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃,专为半导体行业度身定制; 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理,帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制;
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ETCU换热控温单元
ETCU换热控温单元冷却⽔温度范围:+5℃〜+90℃,控温精度±0.05℃;系统⽆压缩机,通过换热降温;⽀持⾮标定制,⽀持PC远程控制;采⽤西⻔⼦/霍尼⻙尔调节阀控制冷却⽔流量;最⼤循环量时,控温温度与冷却⽔温度温差15°C。
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