超纯水温控系列的控温原理与维护有哪些?
冠亚恒温小编为大家详解冠亚恒温研发的超纯水温控系列,该系列是冠亚专为高洁净度温控场景设计的核心产品,以DI WATER为循环介质,主要应用于半导体晶圆、光伏电池、液晶面板等对介质洁净度要求较高的工艺环节,温度范围+15℃~+40℃,控温精度±0.1℃,以下从控温原理与日常维护两方面,为大家详细说明。

控温原理方面,冠亚研发的超纯水温控系列由制冷循环与介质循环两大核心系统构成,两大系统协同运行,实现对目标设备的jing准温度控制。制冷系统中,压缩机排出高温高压的制冷剂蒸汽,经冷凝器将热量传递给外界,制冷剂冷凝为液体后,经过节流阀降温降压,成为低温低压的液态制冷剂;在蒸发器中,液态制冷剂与介质循环系统的超纯水进行换热,吸收超纯水的热量,使制冷剂蒸发为气态,再回到压缩机,完成完整的制冷循环。
介质循环分为冲洗型与循环型两种模式,可根据工艺需求灵活选择。冲洗型循环中,超纯水通过循环泵输送至目标设备进行换热,换热后的超纯水直接回流至设备,完成循环;循环型循环中,超纯水经水箱补液后,由循环泵输送至目标设备,换热后的介质回到设备形成闭环循环,减少介质损耗。设备采用智能算法控制,可实现系统动态温度快速响应,温度跟随性良好,you效减少工艺过程中的温度波动。
维护要点上,日常需按规范流程操作,保障设备稳定运行。开机前,需检查电源连接情况,确认220V AC±10%供电正常,同时检查超纯水的电导率,确保介质电阻率符合10~18MΩ·cm的要求,避免杂质离子污染设备内部管路。运行过程中,需实时监测介质流量、压力与温度,介质流量需保持在45LPM~30LPM区间,压力控制在0.43MPa~0.45MPa,密切观察设备有无异响、漏液等异常情况,发现问题及时停机排查。

定期维护需按固定周期开展,每3个月检查设备内部过滤器,及时清理杂质,防止水垢生成,降低游离离子污染风险;每6个月对蒸发器、冷凝器进行清洗,去除表面污垢,提升换热效率;每12个月检查循环泵、压缩机的运行状态,更换润滑油,保障设备核心部件正常工作。停机后,需关闭电源与介质阀门,排空设备内部介质,清理设备表面污渍,做好运行记录,注明运行时长、参数及设备状态。此外,设备具备过载保护、电源保护、液位保护等功能,维护时需定期检查保护装置,确保其正常运行,避免设备故障。

FLS常温高精度系列
适用范围 应用: 原理:CHILLER 高精度系列设备集成蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统,进行制冷加热,可实现高精度控温,适用于光刻机、涂胶显影设备等领域制冷加热控温。 核心技术与优势: 1.高精度控温: 采用PID算法或PLC控制,实现温度波动≤±0.005℃,适用于高精密制造场景。 2.多场景适配: 支持氟化液、乙二醇水溶液、DI水等不同介质使用。 产品特点 Product Features …
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FLTZ-U超纯水温控系列
适用范围 Chiller是由紧密耦合的制冷循环与介质循环两大核心系统构成,通过两个循环通道间的介质gao 效换热,实现对目标设备的精准、稳定温度控制。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 原理:制冷剂在系统中循环,通过压缩、冷凝、节流和蒸发四个过程实现制冷; 同时,载冷剂(介质)在独立的循环管路中流动,通过板换换热器将冷量持续…
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FLTRZ二氧化碳系列
适用范围 FLTRZ系列Chiller采用的CO₂(二氧化碳,R744)制冷剂,是契合全球“双碳”战略与huan 保趋势的gao 效制冷设备,以天然CO₂为制冷介质,为半导体行业提供绿色可靠的制冷解决方案。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter
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FLTZ变频多通道系列Chiller
FLTZ系列多通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制,公司在系统中应用多种算法(PID、前馈PID、无模型自建树算法),显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性。
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单通道系列 Single Channel Chiller
FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制,公司在系统中应用多种算法(PID、前馈PID、无模型自建树算法),实现系统快速响应、较高的控制精度。
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面板系列Panel Chiller
面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等,支持⼤流量⾼负载,确保恶劣⼯况下持续稳定运⾏;支持冷却⽔动态调节系统,可根据环境温度与设备热负荷,实时调节⽔温。
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帕尔贴Chiller
冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃,专为半导体行业度身定制; 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理,帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制;
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