超纯水温控系列的控温原理与维护有哪些？

冠亚恒温研发的CHILLER超纯水温控系列，由制冷循环与介质循环两大核心系统构成，以DIWATER为循环介质，为半导体晶圆、光伏电池、液晶面板等工艺提供稳定的超纯水温控服务，温度范围+15℃~+40℃，控温精度±0.1℃，以下结合控温原理与维护要点展开说明。

控温原理方面，设备的制冷循环与介质循环相互配合，实现对目标设备的温度控制。制冷系统中，压缩机排出高温高压的制冷剂蒸汽，经冷凝器将热量传递给外界，制冷剂冷凝为液体后，经过节流阀降温降压，成为低温低压的液态制冷剂，在蒸发器中与介质循环系统的水进行换热，吸收介质热量，使制冷剂蒸发为气态，再回到压缩机，完成制冷循环。介质循环分为冲洗型与循环型两种模式，冲洗型循环中，超纯水通过循环泵输送至目标设备换热，再回到设备，完成循环；循环型循环中，介质经水箱补液后，通过循环泵输送至目标设备，换热后的介质回到设备，形成闭环循环。设备采用智能算法控制，实现系统动态温度快速响应，控制精度稳定，温度跟随性良好，可减少工艺过程中的温度波动。

维护要点上，日常需按规范流程操作，保障设备稳定运行。开机前，检查电源连接情况，确认220VAC±10%供电正常，检查超纯水的电导率，确保介质电阻率符合10~18MΩ・cm的要求，避免杂质离子污染设备。运行过程中，实时监测介质流量、压力与温度，介质流量需保持在45LPM~30LPM区间，压力控制在0.43MPa~0.45MPa，观察设备有无异响、漏液情况，异常时及时停机排查。

定期维护需按周期开展，每3个月检查内部过滤器，清理杂质，防止水垢生成，降低游离离子污染风险；每6个月对蒸发器、冷凝器进行清洗，去除表面污垢，提升换热效率；每12个月检查循环泵、压缩机的运行状态，更换润滑油，保障设备核心部件正常工作。停机后，关闭电源与介质阀门，排空设备内部介质，清理设备表面污渍，做好运行记录，注明运行时长、参数及设备状态。此外，设备具备过载保护、电源保护、液位保护等功能，维护时需定期检查保护装置，确保其正常运行，避免设备故障。

FLS常温高精度系列

适用范围 应用： 原理：CHILLER 高精度系列设备集成蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统，进行制冷加热，可实现高精度控温，适用于光刻机、涂胶显影设备等领域制冷加热控温。 核心技术与优势： 1.高精度控温： 采用PID算法或PLC控制，实现温度波动≤±0.005℃，适用于高精密制造场景。 2.多场景适配： 支持氟化液、乙二醇水溶液、DI水等不同介质使用。 产品特点 Product Features …

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FLTZH高温系列

适用范围 应用： CHILLER高温系列主要应用与薄膜沉积领域，适用于CVD、PECVD、MOCVD等需要带走高温热量的工艺制程中，满足半导体高温测试需求。 核心技术与优势： 1、高温范围宽：出口温度最高可达300℃。 2、控温精准：采用智能算法，实现系统动态温度快速响应、控制精度±0.1℃（可选配±0.01℃），具有良好的温度跟随性。 3、节约能耗:采用变频自适应调节、软启动等技术，实现…

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FLTZ-U超纯水温控系列

适用范围 Chiller是由紧密耦合的制冷循环与介质循环两大核心系统构成，通过两个循环通道间的介质gao 效换热，实现对目标设备的精准、稳定温度控制。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 原理：制冷剂在系统中循环，通过压缩、冷凝、节流和蒸发四个过程实现制冷； 同时，载冷剂（介质）在独立的循环管路中流动，通过板换换热器将冷量持续…

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FLTRZ二氧化碳系列

适用范围 FLTRZ系列Chiller采用的CO₂（二氧化碳，R744）制冷剂，是契合全球“双碳”战略与huan 保趋势的gao 效制冷设备，以天然CO₂为制冷介质，为半导体行业提供绿色可靠的制冷解决方案。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter

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氟化液回收装置

适用范围 氟化液回收系统采用一体式风冷设计。采用品牌的压缩机、冷凝器、蒸发器等部件，形成制冷系统提供冷源，蒸发器与客户端氟化液循环系统进行换热，对氟化液进行冷凝后回收。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 控制系统采用PLC加触摸屏方式，可以显示环境温度，具有电源欠压、缺相报警，机组本地触摸屏可实现所有温度监视功能。 同时，…

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FLTZ变频多通道系列Chiller

FLTZ系列多通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性。

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单通道系列 Single Channel Chiller

FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），实现系统快速响应、较高的控制精度。

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面板系列Panel Chiller

面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等，支持⼤流量⾼负载，确保恶劣⼯况下持续稳定运⾏；支持冷却⽔动态调节系统，可根据环境温度与设备热负荷，实时调节⽔温。

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帕尔贴Chiller

冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃，专为半导体行业度身定制； 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制；

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负压型控温机组

负压型控温系统通过负压环境下的流体循环实现精准温度控制，原理：通过负压发⽣器驱动导热介质（⽔/油）循环，避免泄漏⻛险，适⽤于各种类型板卡冷却。

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