半导体光刻工艺配套：FLTZ 单通道温控设备说明

2026年5月7日行业新闻 fltz-单通道温控设备10

冠亚恒温小编为大家介绍 FLTZ 单通道温控设备在半导体光刻工艺中的配套应用。光刻工艺是半导体制造的核心环节，过程中对设备温度的稳定性、均匀性有着明确要求，温度波动会直接影响光刻胶的曝光效果，进而影响芯片关键尺寸。FLTZ 系列制冷循环器以单通道设计为基础，通过闭环循环实现对光刻设备的jing准温控，适配光刻工艺的温控需求。

FLTZ 系列设备采用单级蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统集成设计，可实现制冷与加热功能，同时为用户提供温度稳定的冷却介质。设备支持循环液出口温度控制与工件负载温度控制（选配），出口控温精度稳定在 ±0.1℃，部分型号可定制 ±0.01℃控温精度，能够满足光刻工艺对温度稳定性的要求。工艺工程温度控制可根据自创无模型自建树算法和串级算法结合，控制工件目标温度，实现动态控温，减少温度偏差对光刻工艺的影响。

在光刻设备配套中，FLTZ 系列设备可为光刻机的光学系统、晶圆台提供稳定的冷却介质，控制设备运行温度，避免温度过高或波动导致的设备性能偏差。设备支持氟化液、乙二醇水溶液、DI 水等多种介质，其中去离子水可满足微电子领域对介质低电导率的需求，适配光刻工艺对介质洁净度的要求。介质流量压力可根据型号调整，流量范围 15-30LPM，压力 0.3-0.5MPa，可匹配光刻设备的管路接口与流量需求。

设备的安全防护配置适配半导体车间运行规范，具备自我诊断功能、相序断相保护器、电源过电流、欠欠压保护、漏液报jing、加热系统保护、进出液口压力监控及低位保护等，可实时监测设备运行状态，异常时自动报jing并停机，保障设备与光刻设备的安全运行。通讯方面，支持 MODBUS RTU/TCP 协议或 ETHERCAT、LONWORKS 等，可接入车间自动化控制系统，实现远程监控与参数调整，适配半导体产线的自动化运行需求。

FLTZ 单通道温控设备以稳定的控温性能、多介质适配能力，为半导体光刻工艺提供了可靠的温控支持，可根据不同光刻设备的温度需求、流量需求选择适配型号，保障光刻工艺的稳定运行。