新闻中心

工业级变频冷水机组丨晶圆制造±0.1℃刻蚀/镀膜工艺用冷却方案

2025年3月25日 68

晶圆制造±0.1℃刻蚀/镀膜工艺用冷却

查看全文

热流仪（Thermal System）提升产品可靠性测试效率的四大技术路径

2025年3月19日 73

某3D封装芯片测试中，热流罩以±0.2℃精度完成循环，TSV结构零失效。

查看全文

高低温气流温度冲击系统技术发展趋势与半导体行业应用案例

2025年3月19日 83

热流仪 Thermal system

查看全文

现场盛况！BIOCHINA（EBC）2025第十届易贸生物展会圆满落幕，冠亚制冷期待与您再次相逢!

2025年3月17日 97

低温冷冻机

查看全文

半导体制造其他工艺用Chiller

2025年3月14日 78

在高温处理后，Chiller用于快速冷却硅片，以减少热应力并恢复至室温。

查看全文

半导体chiller在刻蚀工艺中应用的好处

2025年3月14日 92

无锡冠亚半导体Chiller能够适应不同的刻蚀工艺需求，无论是湿法刻蚀还是干法刻蚀，都能提供所需的温度控制。

查看全文

冠亚恒温祝亲爱的你，2025年妇女节快乐

2025年3月7日 98

在这个专属女性的节日里， 冠亚恒温为每一位闪闪发光的“她” 准备了心意满满的福利 愿妳被时光温柔以待，绽放光芒 冠亚恒温·节日福利 这个三月，把宠爱写在细节里💖 愿每一位努力生活的你， 都能在冠亚恒温大家庭里， 收获温暖、自信与...

查看全文

封装测试领域温控chiller在刻蚀工艺中的应用

2025年3月4日 65

封装测试领域温控chiller在刻蚀工艺中的应用是重要的，因为它们帮助维持刻蚀设备和过程中的温度稳定性，以下是Chiller在刻蚀工艺中的一些具体应用： 1. 维持恒定的设备运行温度 功能：封装测试领域温控chiller通过循环冷却水来降低刻蚀设备产生的...

查看全文

等离子刻蚀冷却chiller厂家介绍常见刻蚀工艺类型有哪些？

2025年3月4日 56

刻蚀工艺是半导体制造中用于在硅片上形成微细结构的关键步骤，常见的刻蚀工艺类型包括哪些呢？接下来，等离子刻蚀冷却chiller厂家冠亚恒温为您介绍： 湿法刻蚀（Wet Etching）：利用化学溶液去除硅片上的材料。这种方法成本较低，适合于较不敏感的工艺...

查看全文

光刻工艺温度控制chiller应用案例

2025年2月27日 54

光刻工艺是半导体制造中其中温度控制对于确保光刻胶的均匀性和光刻过程的稳定性影响比较大。以下是一些光刻工艺中温度控制Chiller的应用案例： 案例一：光刻胶储存和处理的温度控制 应用描述：光刻胶对温度非常敏感，其化学活性和粘度会随温度变...

查看全文