宽温域工业温控：FLTZ -25~+90℃系列说明

工业领域的宽温域工艺，如材料热处理、部件温度循环测试、jing密制造温控等，需覆盖 – 25℃至 + 90℃的温度区间，对设备的温域覆盖与控温稳定性要求较高。FLTZ -25~+90℃系列制冷循环器，作为工业宽温域温控设备，可实现单设备覆盖中低温至高温，适配工业多工序温控需求。

该系列设备温度范围为 – 25℃至 + 90℃，可满足工业多数宽温域工艺的温度需求。控温jing度 ±0.1℃，可定制 ±0.01℃高jing度配置，减少温度波动对工业产品性能的影响。制冷量 @-15℃为 1kW 至 12kW，加热能力 1.5kW 至 7.5kW，可适配不同热负荷的工业场景，兼顾制冷与加热效率。

设备采用单级蒸汽压缩制冷系统与全密闭循环设计，搭配变频压缩机与磁力驱动泵，降低能耗的同时提升热量利用率。40℃以下加热采用压缩机热气加热，无需额外电加热器，简化设备结构，减少故障点。循环介质可选氟化液或乙二醇水溶液，氟化液具备低毒性、不可燃、绝缘特性，适配工业对介质安全性的要求。

在工业宽温域应用中，该设备可用于薄膜沉积低温控温、jing密部件高温固化、电子组件温度循环测试、金属材料低温韧性测试、化工反应釜宽温域温控等。支持动态控温功能，通过无模型自建树算法与串级算法结合，可根据工件温度反馈实时调节介质温度，减少温度偏差，保障工业工艺一致性。

操作与配置适配工业场景，采用 7 寸彩色触摸屏，支持温度参数设置、升降温速率调节、多段程序编程、数据记录与导出，满足复杂工业工艺的温度模拟需求。安全防护包含相序保护、过流保护、低液位保护、漏液报jing、超温保护等，实时监测设备运行状态，保障工业生产安全。通讯接口支持 RS485 与以太网，可对接工业自动化系统，实现远程监控与数据同步。

FLS常温高精度系列

适用范围 应用： 原理：CHILLER 高精度系列设备集成蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统，进行制冷加热，可实现高精度控温，适用于光刻机、涂胶显影设备等领域制冷加热控温。 核心技术与优势： 1.高精度控温： 采用PID算法或PLC控制，实现温度波动≤±0.005℃，适用于高精密制造场景。 2.多场景适配： 支持氟化液、乙二醇水溶液、DI水等不同介质使用。 产品特点 Product Features …

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FLTZH高温系列

适用范围 应用： CHILLER高温系列主要应用与薄膜沉积领域，适用于CVD、PECVD、MOCVD等需要带走高温热量的工艺制程中，满足半导体高温测试需求。 核心技术与优势： 1、高温范围宽：出口温度最高可达300℃。 2、控温精准：采用智能算法，实现系统动态温度快速响应、控制精度±0.1℃（可选配±0.01℃），具有良好的温度跟随性。 3、节约能耗:采用变频自适应调节、软启动等技术，实现…

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FLTZ-U超纯水温控系列

适用范围 Chiller是由紧密耦合的制冷循环与介质循环两大核心系统构成，通过两个循环通道间的介质gao 效换热，实现对目标设备的精准、稳定温度控制。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 原理：制冷剂在系统中循环，通过压缩、冷凝、节流和蒸发四个过程实现制冷； 同时，载冷剂（介质）在独立的循环管路中流动，通过板换换热器将冷量持续…

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FLTRZ二氧化碳系列

适用范围 FLTRZ系列Chiller采用的CO₂（二氧化碳，R744）制冷剂，是契合全球“双碳”战略与huan 保趋势的gao 效制冷设备，以天然CO₂为制冷介质，为半导体行业提供绿色可靠的制冷解决方案。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter

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氟化液回收装置

适用范围 氟化液回收系统采用一体式风冷设计。采用品牌的压缩机、冷凝器、蒸发器等部件，形成制冷系统提供冷源，蒸发器与客户端氟化液循环系统进行换热，对氟化液进行冷凝后回收。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 控制系统采用PLC加触摸屏方式，可以显示环境温度，具有电源欠压、缺相报警，机组本地触摸屏可实现所有温度监视功能。 同时，…

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FLTZ变频多通道系列Chiller

FLTZ系列多通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性。

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单通道系列 Single Channel Chiller

FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），实现系统快速响应、较高的控制精度。

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面板系列Panel Chiller

面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等，支持⼤流量⾼负载，确保恶劣⼯况下持续稳定运⾏；支持冷却⽔动态调节系统，可根据环境温度与设备热负荷，实时调节⽔温。

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帕尔贴Chiller

冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃，专为半导体行业度身定制； 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制；

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负压型控温机组

负压型控温系统通过负压环境下的流体循环实现精准温度控制，原理：通过负压发⽣器驱动导热介质（⽔/油）循环，避免泄漏⻛险，适⽤于各种类型板卡冷却。

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