制冷加热控温系统：制药化工半导体高精尖行业的“温度指挥家”

在制药、化工、半导体等高精尖行业，温度波动对良率失控、工艺失效的影响很大。无锡冠亚恒温制冷技术有限公司（以下简称“无锡冠亚”）始终聚焦工业温控领域，凭借超过15年的技术积淀与规模化制造实力，为产业升级提供“准确、稳定、安全”的温度控制解决方案。

硬核实力，支撑“温控精度”

无锡冠亚自2010年成立以来，已发展为集研发、生产、销售于一体的高新技术企业，以扎实的制造根基承接高难度工艺温控需求：

规模保障交付：坐落于江苏无锡，拥有现代化生产车间超2.5万㎡，年产能达5000台套，年产值突破3亿元，可快速响应规模化、定制化项目需求。

技术驱动创新：组建超80人的研发团队，累计获授权证书130余项。

质量贯穿始终：全面执行ISO9001质量管理体系，产品通过CE认证，核心部件采用国际一线品牌，确保设备在全生命周期内的可靠运行。

精准控温，赋能多元场景

我们的制冷加热控温系统，以“宽温域、高精度、快响应、高安全”为核心优势，成为从实验室到产业化放大的温度控制。

宽域精准：温度范围覆盖‑120℃～+300℃（视型号），控温精度达±0.1℃，满足合成、低温反应等严苛工艺。

动态响应：采用智能PID算法，升降温切换迅速，从容应对反应过程中的温度突变，缩短生产周期。

安全设计：具备过温、漏电、压力等多重保护机制，可选防爆配置，保障高危环境下的稳定运行。

灵活拓展：支持模块化串并联，轻松适配从小试、中试到量产的全流程扩产需求，降低重复投资。

聚焦行业，提供定制化解决方案

制药行业：应用于结晶控制、原料药合成、制剂稳定性试验等，确保反应重现性与产品一致性。

化工行业：服务于聚合反应、催化加氢、精馏提纯等过程，提升反应效率与产品纯度。

半导体行业：为晶圆制造、光刻胶涂布、芯片封装等环节提供高精度温控，守护芯片良率。

核心原理，实现“冷热自如”

系统基于“导热介质循环+智能温控算法”工作：导热介质在密闭管路中循环，连接加热与制冷模块；高精度传感器实时监测温度，PLC动态调节输出，实现无温差准确控制；并通过多种接口形式，与反应釜、换热器等负载对接，确保热量准确传递。

选择无锡冠亚，让温度尽在掌控

在高精尖制造领域，温度控制精度直接定义产品竞争力。无锡冠亚以扎实的制造根基、深厚的技术积累与可靠的温控产品，为您的工艺过程提供稳定可靠的温度环境。让我们携手，让每一次反应都准确可控，为您的产品质量与生产效率保驾护航。

FLS常温高精度系列

适用范围 应用： 原理：CHILLER 高精度系列设备集成蒸汽压缩制冷系统与循环介质系统，进行制冷加热，可实现高精度控温，适用于光刻机、涂胶显影设备等领域制冷加热控温。 核心技术与优势： 1.高精度控温： 采用PID算法或PLC控制，实现温度波动≤±0.005℃，适用于高精密制造场景。 2.多场景适配： 支持氟化液、乙二醇水溶液、DI水等不同介质使用。 产品特点 Product Features …

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FLTZH高温系列

适用范围 应用： CHILLER高温系列主要应用与薄膜沉积领域，适用于CVD、PECVD、MOCVD等需要带走高温热量的工艺制程中，满足半导体高温测试需求。 核心技术与优势： 1、高温范围宽：出口温度最高可达300℃。 2、控温精准：采用智能算法，实现系统动态温度快速响应、控制精度±0.1℃（可选配±0.01℃），具有良好的温度跟随性。 3、节约能耗:采用变频自适应调节、软启动等技术，实现…

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FLTZ-U超纯水温控系列

适用范围 Chiller是由紧密耦合的制冷循环与介质循环两大核心系统构成，通过两个循环通道间的介质gao 效换热，实现对目标设备的精准、稳定温度控制。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 原理：制冷剂在系统中循环，通过压缩、冷凝、节流和蒸发四个过程实现制冷； 同时，载冷剂（介质）在独立的循环管路中流动，通过板换换热器将冷量持续…

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FLTRZ二氧化碳系列

适用范围 FLTRZ系列Chiller采用的CO₂（二氧化碳，R744）制冷剂，是契合全球“双碳”战略与huan 保趋势的gao 效制冷设备，以天然CO₂为制冷介质，为半导体行业提供绿色可靠的制冷解决方案。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter

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氟化液回收装置

适用范围 氟化液回收系统采用一体式风冷设计。采用品牌的压缩机、冷凝器、蒸发器等部件，形成制冷系统提供冷源，蒸发器与客户端氟化液循环系统进行换热，对氟化液进行冷凝后回收。 产品特点 Product Features 产品参数 Product Parameter 控制系统采用PLC加触摸屏方式，可以显示环境温度，具有电源欠压、缺相报警，机组本地触摸屏可实现所有温度监视功能。 同时，…

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FLTZ变频多通道系列Chiller

FLTZ系列多通道Chillers主要用于半导体制程中对反应腔室温度的精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），显著提升系统的响应速度、控制精度和稳定性。

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单通道系列 Single Channel Chiller

FLTZ系列单通道Chillers主要应用与半导体生产过程中及测试环节的温度精准控制，公司在系统中应用多种算法（PID、前馈PID、无模型自建树算法），实现系统快速响应、较高的控制精度。

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面板系列Panel Chiller

面板系列Chiller应⽤于刻蚀、蒸镀、镀膜⼯艺等，支持⼤流量⾼负载，确保恶劣⼯况下持续稳定运⾏；支持冷却⽔动态调节系统，可根据环境温度与设备热负荷，实时调节⽔温。

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帕尔贴Chiller

冠亚恒温LNEYA 帕尔贴热电制冷器CHILLER温度范围从-20到90℃，专为半导体行业度身定制； 基于经过实践验证的帕尔贴热传导原理，帕尔贴温度控制系统能够为等离子刻蚀应用提供可重复性的温度控制；

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负压型控温机组

负压型控温系统通过负压环境下的流体循环实现精准温度控制，原理：通过负压发⽣器驱动导热介质（⽔/油）循环，避免泄漏⻛险，适⽤于各种类型板卡冷却。

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FLTZH双通道高温Chiller

双通道高温Chiller⽤来满⾜半导体⾼温测试需求。介质温度最⾼可达250℃；以特殊的⼯艺⽅式，保证系统⾼温⼯况下的控温精度。

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ETCU无压缩机换热控温单元

ETCU换热控温单元冷却⽔温度范围：+5℃〜+90℃，控温精度±0.05℃；系统⽆压缩机，通过换热降温；⽀持⾮标定制，⽀持PC远程控制；采⽤西⻔⼦/霍尼⻙尔调节阀控制冷却⽔流量；最⼤循环量时，控温温度与冷却⽔温度温差15°C。

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