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Chiller低温复叠制冷系列

  • 温控精度±0.1℃
  • 温度范围-80℃~+80℃
  • 内循环液容积4L~10L
  • 膨胀罐容积10L~20L
  • 电源 380V 50HZ

半导体投入大,制造工序多,为了提高产品的良品率、确保收益,需要在半导体的每个环节进行质量把控,影响产品质量的其中一个重要因素就是温度,温度的稳定性及精准度非常重要,为获得稳定可靠的产品保驾护航。

冠亚循环冷却器和水- 水热交换器为从前端到后端的整体半导体工艺流程提供支持。通过拥有超过16年的温度控制经验以及与各大zhi名主设备机台直接配套经验,我们为半导体客户提供标准产品及用户定制产品、温度控制技术的专业知识以及全球化服务,有助于满足您从铸锭到测试的半导体工艺流程中苛刻的温度要求。

型号 FLTZ-803W FLTZ-805W FLTZ-806W FLTZ-808W FLTZ-810W
温度范围  -80℃~+90℃
控温精度 ±0.1℃(可定制±0.01℃控温精度设备)
流量/压力 MAX 7~25L/min  5bar 12~45L/min 6bar
制冷量at-70℃ 0.6kW 1kW 1.5kW 2kW 3kW
加热功率 2kW 2kW 2kW 3.5kW 3.5kW
内循环液容积 4L 5L 6L 8L 10L
膨胀罐容积 10L 10L 15L 15L 20L
导热介质 氟化液
进出接口 Rc1/2 Rc1/2 Rc3/4 Rc3/4 Rc3/4
冷却水接口 Rc3/4 Rc3/4 Rc3/4 Rc1 Rc1
冷却水at20℃ 1.8m³/H 2.5m³/H 3m³/H 5m³/H 6m³/H
断路器 25A 25A 32A 40A 50A
⼯艺过程温度控制 可根据⾃创⽆模型⾃建树算法和串级算法相结合来控制远程⽬标温度(动态控温)
型号FLTZ-1002WFLTZ-1004W
温度范围 -100℃~+90℃
控温精度±0.1℃(可定制±0.01℃控温精度设备)
流量 MAX7~25L/min12~45L/min
制冷量at-90℃1.5kW3kW
加热功率3.5kW5.5kW
内循环液容积5L8L
膨胀罐容积10L15L
导热介质氟化液
导热介质接口Rc3/4Rc3/4
冷却水接口Rc3/4Rc1
冷却水at20℃50L/min 2bar~7bar100L/min 2bar~7bar
断路器32A63A
⼯艺过程温度控制可根据⾃创⽆模型⾃建树算法和串级算法相结合来控制远程⽬标温度(动态控温)

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