半导体Chiller设备温控技术在晶圆制造工艺中的应用实践
14在晶圆制造过程中,半导体Chiller设通过制冷与加热的动态调节,为晶圆制造各环节提供稳定的温度环境,其核心作用是维持工艺过程中温度的准确控制,避免因温度波动导致的图形转移偏差、薄膜均匀性下降等问题。
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在晶圆制造过程中,半导体Chiller设通过制冷与加热的动态调节,为晶圆制造各环节提供稳定的温度环境,其核心作用是维持工艺过程中温度的准确控制,避免因温度波动导致的图形转移偏差、薄膜均匀性下降等问题。
查看全文直冷式制冷技术因其直接换热的原理,在多个工业领域展现出较高的适用性。其中,三通道直冷机通过多回路控温设计,能够同时满足不同温区的制冷需求,在半导体制造、化工生产、制药及大型服务器冷却等行业得到应用。
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查看全文适用范围 氢气经过内高压换热器,制冷系统通过制冷剂直接与氢气换热,实现高效换热控温;设备本体采用正压防爆系统,正压系统内置有恒温器,确保系统环境维持在常温。相对于传统防冻液或其他流体与氢气换热,本设备采用介质为制冷系统制冷剂(相变热),...
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查看全文ETCU换热控温单元冷却⽔温度范围:+5℃〜+90℃,控温精度±0.05℃;系统⽆压缩机,通过换热降温;⽀持⾮标定制,⽀持PC远程控制;采⽤西⻔⼦/霍尼⻙尔调节阀控制冷却⽔流量;最⼤循环量时,控温温度与冷却⽔温度温差15°C。
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